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        • 1200℃滑動式三溫區(qū)CVD系統(tǒng)(1).jpg
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        1200℃滑動式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)

        產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

        關(guān)鍵詞:

        CVD系統(tǒng)

        圖片名稱

        銷售熱線:

        • 產(chǎn)品描述
        • 技術(shù)參數(shù)
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          • 商品名稱: 1200℃滑動式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
          • 商品編號: 1034429691655446528

          產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

          銷售熱線:15122725930 

           

          產(chǎn)品用途:

          此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

          生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

           

          產(chǎn)品組成:

          CVD系統(tǒng)配置:

          1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。

          2.滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動,并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

          3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

          4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    

           

          產(chǎn)品特點:

          1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

          2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司設(shè)計,提高操作便捷性。

          3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。

          4 (電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

          關(guān)鍵詞:
          • CVD系統(tǒng)
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